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[2062] 局所熱物性測定について | 2010-12-26 13:21:11 |
お名前 : 工程管理 [ホームページ] | カテゴリー : 【計測分析技術の話題】【計測分析技術】 |
局所熱物性測定でデバイス断面での評価は可能なのでしょうか?膜厚200nm程度の薄膜断面を測定したと考えています。 |
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[2063] Re:局所熱物性測定について | 2010-12-27 15:12:23 |
お名前 : ED-NM [ホームページ] | カテゴリー : 【計測分析技術の話題】【計測分析技術】 |
どのような物性を測定したいのかわかりませんが, |
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[2064] Re:局所熱物性測定について | 2010-12-27 16:55:01 |
お名前 : 工程管理 [ホームページ] | カテゴリー : 【計測分析技術の話題】【計測分析技術】 |
ご丁寧にありがとうございます。 |
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[2065] Re:局所熱物性測定について | 2011-01-05 08:39:14 |
お名前 : ED-NM [ホームページ] | カテゴリー : 【計測分析技術の話題】【計測分析技術】 |
実際に測定したことが無いのでデバイス断面に適用でき |
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[2066] Re:局所熱物性測定について | 2010-12-30 22:36:37 |
お名前 : 筑舗化 [ホームページ] | カテゴリー : 【計測分析技術の話題】【計測分析技術】 |
実際に測定したことがないのでデバイス断面が測定できるかは分かりませんが、http://www.therm-info.com/uploads/NanoIR.pdfもあります。 |
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[2067] Re:局所熱物性測定について | 2011-02-18 00:17:03 |
お名前 : HK [ホームページ] | カテゴリー : 【計測分析技術の話題】【計測分析技術】 |
デバイス断面で分析できるか分かりませんが、http://www.pico-therm.com/Japanese/01_home.htmlというのもあります。 |
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