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[2233] Re:XPSにおける分析可能時間 2011-10-19 21:44:17
お名前 : EUPS [メール] [ホームページ] カテゴリー : 【計測分析技術の話題】【計測分析技術
お役に立つかどうか、わかりませんがーー。

ー7乗Pa台の前半のガスが全部有機分子で、付着率が100%ならば、10分で全面が覆われそうです。それを考えると、20分程度で、C 1sピークが現れてもおかしくないですが、普通のことかどうかは、私には分かりません。

顕著に現れたC 1sのピークで、どの程度、試料が、「化学的に汚染されるか」が、ご関心事である、と仮定して、ご参考になるかどうか、1.深さ分解能が0.5nmで、2.最表面原子の電子状態が見え、3.金属最表面の超清浄度が評価できる、等の特長があるEUPS(http://staff.aist.go.jp/t-tomie/EUPS/)での状況を、ご紹介します。

1.先ず、Siウエハーを指で、ごしごしこすっても、汚れは1nm程度でした。材料によりますが、厚い汚れは付着させづらい、と考えています。
2.Ptの清浄面を出そうと、夕方まで実験をして、表面を清浄化した試料を、−8Pa台の分析室に入れたまま、翌朝、実験の続きをしたことがあります。一晩(16~18時間)で、(エイヤッの数字ですが)1/3分子層程度の汚染と言えるPt 4fの強度低下と、仕事関数の0.5eV程度の低下がありました。

イオンスパッタークリーニングでは、イオン銃内のベーキングが不十分で、Siを却って汚した(酸化させた)という、失敗経験もあります。

数時間かけて深さ分布分析を行う時、その間に付着する汚染物で実際の組成とは異なった結果になるかも知れない、というご心配ですが、XPSの感度は高くないですから、絶対の保証はしませんが、心配するような量の有機物が付着するとは思えません。

>最近当施設に導入したXPS装置をテストしている時に、SiやSiO2試料をArイオンビームでクリーニング後、20分程度放置すると、顕著にC 1sのピークが現れています。また、UPS測定スペクトル形状が変化していました。
 
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題名 お名前 投稿日付 No. カテゴリー
 XPSにおける分析可能時間 XPS担当 2011-10-07 14:20:25 2232 計測分析技術
  └ Re:XPSにおける分析可能時間 EUPS 2011-10-19 21:44:17 2233  
    └ Re:XPSにおける分析可能時間 XPS担当 2011-10-20 15:15:42 2234  


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