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[1704] Re:ウエハ表面付着物の形態のTXRFによる評価	2010-08-23 00:03:28
お名前 : A.S. [ホームページ]	カテゴリー : 【計測分析技術の話題】【計測分析技術】
[1] R. Klockenkaemper, Total-Reflection X-ray Fluorescence Analysis (John Wiley & Sons, New York, 1997), 65 (1997). [2] 気相分解/全反射蛍光X線分析法によるシリコンウェハー上の軽元素分析山上基行, 野々口雅弘, 山田隆, 庄司孝, 宇高忠, 森良弘, 野村惠章, 谷口一雄, 脇田久伸, 池田重良, 分析化学, 48, 1005-1011 (1999). [3] A. Shimazaki, K. Miyazaki, T. Matsumura and S. Ito, “Analysis of Low Metallic Contamination on Silicon Wafer Surfaces by Vapor-Phase Treatment and Total Reflection X-ray Fluorescence Analysis,” Jpn. J. Appl. Phys. 45, 9037 (2006).
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題名	お名前	投稿日付	No.	カテゴリー
★ ウエハ表面付着物の形態のTXRFによる評価	yt	2010-08-05 07:42:58	1700	計測分析技術
└ Re:ウエハ表面付着物の形態のTXRFによる評価	A.S.	2010-08-14 21:02:46	1701
└ Re:ウエハ表面付着物の形態のTXRFによる評価	成膜担当	2010-08-17 22:18:40	1702
└ Re:ウエハ表面付着物の形態のTXRFによる評価	yamada	2010-08-22 13:41:52	1703
└ Re:ウエハ表面付着物の形態のTXRFによる評価	A.S.	2010-08-23 00:03:28	1704
└ Re:ウエハ表面付着物の形態のTXRFによる評価	yamada	2010-08-23 22:14:58	1705

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メッセージ	>[1] R. Klockenkaemper, Total-Reflection X-ray Fluorescence Analysis (John Wiley & Sons, New York, 1997), 65 (1997). >[2] 気相分解/全反射蛍光X線分析法によるシリコンウェハー上の軽元素分析 >山上基行, 野々口雅弘, 山田隆, 庄司孝, 宇高忠, 森良弘, 野村惠章, 谷口一雄, 脇田久伸, 池田重良, 分析化学, 48, 1005-1011 (1999). >[3] A. Shimazaki, K. Miyazaki, T. Matsumura and S. Ito, “Analysis of Low Metallic Contamination on Silicon Wafer Surfaces by Vapor-Phase Treatment and Total Reflection X-ray Fluorescence Analysis,” Jpn. J. Appl. Phys. 45, 9037 (2006).
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