![[TSC] 計測技術情報交流広場](/img/title.gif)
編集後記
2011年7月
3月の震災以降、電力不足の中で迎えた暑い季節。皆様どのようにお過ごしでしょうか。
さて、本HPは「TSC計測分析技術WEB編集委員会」から産業技術総合研究所の「ナノエレクトロニクス計測･分析技術研究会」に運営を移行しました。
それ以降、計測分析技術掲示板に投稿または議論された内容を抜き出してみました。
電子顕微鏡に関する内容、ひずみや応力に関する内容、MEMS関連の内容など、様々な分野の計測分析に関する意見交換が実施されています。
今後も、編集委員一同、HP内のコンテンツの充実に努めながら、本HPの読者の皆様に有効な情報を提供し続けたいと考えておりますので、読者の皆様からの活発なご意見をお待ちしております。
| 投稿、意見交換された項目 | 計測分析技術Key Word |
| 低誘電率(Low-k)絶縁膜の分析法 | HIM、SEM、TEM |
| GaNの歪み計測 | ラマン分光 |
| AESの微分スペクトルと積分スペクトル | AES |
| EELSでの誘電率測定における試料膜厚 | TEM、STEM、EELS、FIB |
| ナノインプリント | ナノインプリント、カーボンナノチューブ |
| シリコンの光屈折率（ドーパント濃度依存性） | 光屈折率 |
| シリコン結晶の光屈折率（炭素濃度依存性） | 光屈折率 |
| EBSDでの歪評価 | EBSD |
| SiN膜の組成の評価方法 | 分光エリプソ、FTIR |
| SIMS分析条件 | SIMS |
| NBDでの歪み評価 | NBD、TEM |
| 重金属染色について | SEM、TEM |
| マイクロカロメータ | SEM、EDS |
| 半導体の配線材料中の不純物 | TOF-SIMS、SIMS |
| 薬液中インラインメタルモニター | ICP-MS |
| カソードルミネッセンスでの応力測定 | カソードルミネッセンス（CL) |
| チップ内での膜厚分布評価 | プローブ顕微鏡、膜厚分布測定装置、分光スペクトル |
ところで、私事で恐縮ですが、先日手元に届いた健康診断の結果を見ながら、脂汗を流す状況となってしまいました。 オプションで実施した血液の精密検査で、腫瘍マーカーなるものに高い数値（少しですが、）が見受けられたためです。
会社の先輩からは「ICの故障解析もいいけど、自分の故障解析が必要だね！」とからかわれる始末。（筆者の専門が故障解析なので、、） 相談に伺った総合病院の先生にはPET検査を勧められつつも、まずは調子の悪そうな部分のMRIや内視鏡検査を実施してもらいました。 結果は異常なし（又は一部老化であきらめるしかない部分もあるようです。）という事で、なんとか安心する事ができました。 今回、精密検査を受けて感じたのは、分野は違いますが、計測分析技術の重要性です。
不明確な部分を明確にし改善につなげるために、なくてはならない技術ですので、まずは、本HPの活動を通じて、 計測分析技術の発展を盛り上げていきたいと改めて感じた出来事でした。
長くなりましたが、これからも、本HPの応援をよろしくお願いいたします。
HP編集委員
過去の編集後記
編集後記執筆者一覧（50音順）（所属は執筆当時）
- 井上 靖朗 独立行政法人 産業技術総合研究所
- 小池 正記 独立行政法人 産業技術総合研究所
- 嶋崎 綾子 株式会社 東芝
- 高野 史好 独立行政法人 産業技術総合研究所
- 多田 哲也 独立行政法人 産業技術総合研究所
- 中村 誠 株式会社 富士通研究所
- 畑 良文 パナソニック・タワージャズセミコンダクター 株式会社
- 服部 信美 ルネサスエレクトロニクス 株式会社
- 宮武 久和 独立行政法人 産業技術総合研究所
- 渡辺 雄一 オン・セミコンダクター
