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欠陥を露出させるエッチャント

対象物質 エッチング方位 エッチャントの薬液組成 エッチング時間 文献番号
Si 全方位 CP-4A(5HNO3 : 3HF : 3CH3COOH) 2～3min. 1
1HF : 7HNO3
10HF : 5HNO3 : 14CH3COOH 0.5～3min. 2
Dash (1HF : 3HNO3 : 10CH3COOH) 1～16h 3
3(CP4) : 5(2HNO3 : 4HF : 2(CuNO3[10%]) 2～4min. 4
3HN3COOH : 5HNO3 : 3HF : 2Hg(NO3)2[2%]) 10min.
Secco (2HF : 1(K2Cr2O7[44g/l]溶液) 5
Wright (2HF : 2CH3COOH :　1HNO3 : 1CrO3[400g/l]水溶液)) 6
Shimmel (2HF : 1CrO3[1M] : 1.5H2O) 7
(111) 6HF : 3HNO3 : 100H2O : Br2[5.5mg] : Cu(NO3)2[0.3g] 4h
Sirtle (1HF : 1Cr2O3[500g/l]溶液) 4～6min. 8
Spray 9
Rosi 10
Kochs 11
Matsukura 12
Feuerstein 13
Stora 14
Ge (111), (100) CP-4(5HNO3 : 3HF : 3CH3COOH : 0.2Br2) 15, 16
No.2(1HNO3 : 1HF : 4H2O) 17
CPD-2(15HNO3 : 15HF : 0.02Br2) 18
Superexol(1HF : 1H2O2 : 4H2O） 1min. 19
2HNO3 : 4HF : 2(10%CuNO3水溶液) 2min.以上 20
(111), (100) HF[40ml] : HNO3[20ml] : H2O[40ml] : AgNO3[2g] 1min. 20
K3Fe(CN)6[8g] : KOH[12g] : H2O[100ml] boil 1min. 16, 21
(111) 氷で冷却したKOH[0.8N]にCl2を通してpH8～9にし，この液を15ml取り，KOH[0.5%]溶液60mlで希釈． 3h 19
GaAs (111)B 1HF : 1HNO3 : 1H2O 22
3HCｌ : 3HNO3 : 2H2O 22
2HCｌ : 1HNO3 : 2H2O 10min. 23
2H2O2 : 1HF : 4～6H2O 45min. 24, 25
1HNO3 : 2～3H2O 22, 25
1H2O : 3H2SO4 : 1H2O2 8min. 26
その他 27
(111)A, (111)B (HNO3 : 1H2O)+1%AgNO3 25
(1HF : 5～7HNO3 : 8～12H2O) : 1%AgNO3 25
(111)A (1HF : 3HNO3 : 0～4H2O) + 1%AgNO3 25
(110), (100) 5H2SO4 : 1H2O2 : 1H2O 10℃ 3～5min. 28
15H2SO4 : 1H2O2 : 1H2O 10℃　5min. 28
20H2SO4 : 1H2O2 : 1H2O R. T. 60min. 28
1HF : 3HNO3 : 4H2O 3min. 28
NH4OH : H2O2 10℃ 0.5min. 28
(100) 3H2SO4 : 1H2O2 : 1H2O 45℃ 5min. 29
5H2SO4 : 1H2O2 : 1H2O 29
1～2%Br2 in CH3OH 30
AB(H2O[2ml] : AgNO3[0.8mg] : CrO3[1g] : HF[1ml]) R. T. 5min. 31
溶融KOH 390℃ 5min. 32
GaP (111)B 塩素-飽和メタノール
5H2SO4 : 1H2O2 : 1H2O 29
1～2%Br2 in CH3OH 30
RC(H2O[8ml] : AgNO3[10mg] : HNO3[6ml] : HF[4ml]) 65℃ 4min. 25
RC 70℃ 10min. 25
(110) 1HF : 1CH3COOH : 1(飽和KMnO4溶液)
(100) AB(H2O[2ml] : AgNO3[8mg] : CrO3[1g] : HF[1ml]) R. T. 5min. 31
溶融KOH 390℃ 5min. 32
GaSb (111)B 2HNO3 : 1HF : 1GH3COOH 25℃ 15min. 33
1HF : 1HNO3 : 1H2O 1min.
その他 27
InAs (111)B 15HF : 75 HNO3 : 15CH3COOH : 0.06Br2 34
NFe2+(０.4N)を含むconc.HCl 27
その他 25
InP (111)B 6H2O : 3HNO3 : 1HCl 100℃ 1sec. 35
AB(H2O[2ml] : AgNO3[8mg] : CrO3[1g] : HF[1ml]) R. T. 5min. 31
(111)B, (001) 1～2%Br2 in CH3OH 30
20HBr : 2H2O2 : 20HCl : 20H2O R. T. 2min. 36
HNO3[20ml] : HCl[10ml] : Br2[0.25ml] R. T. 5sec. 37
85%H3PO4[2ml] : 47%HBr[1ml] R. T. 2min. 38
47%HBr[3ml] : HNO3[1ml] R. T. 20～30sec. 39
47%HBr[1ml] : 50%HF[5～15ml] R. T. 20～60sec. 39
(001) 47%HBr[1ml] : 99.5%CH3COOH[1～10ml] R. T. 60sec. 39
InSb (111)B, (110) 1HF : 1HNO3 2～5sec.
CP-4A(5HNO3 : 3HF : 3CH3COOH) 5～30sec. 40
(111)B 25HNO3 : 20CH3COOH : 10HF : 1Br2 5sec. 41
3HF : 5HNO3 : 14CH3COOH : 11 H2O 1min.
10HNO3 : 40乳酸 : 5HF : 15H2O 43
1HF : 1H2O2[30%] : 4H2O 5～10sec.
その他 25
27
44
(111)A, (111)B 2HNO3 : 1HF : 1(ステアリン酸で飽和したCH3COOH) 8℃ 45
その他 46
(110) 1HF : 1HNO3 2～5min. 44
(110), (100) 5HF : 5HNO3 : 2H2O 20min.
HCl中のFeCl[0.2N]溶液
(211) 1HF : 1CH3COOH : 1KMnO4[2N]溶液 30
CdS (0001) 6HNO3 : 6CH3COOH : 1H2O 47
HCｌ蒸気 5～10sec. 48
1HCl : 3チオ尿素水溶液[100g/l] 60℃ 5min. 49
CdTe HNO3[10ml] : H2O[20ml] : K2Cr2O7[4g] 50
5%Br2 in CH3COOH : AgNO3[5mg]


(111)A､(111)Bの表記について：
(111)A、(111)Bの表現について：化合物半導体ABにおける(111)Aは、III族元素だけで構成されている(111)面を意味し、(111)B はV族元素だけで構成されている(111)面を意味します。
例えば、GaAsの場合(111)AはGaだけで構成されている(111)面を(111)BはAsだけで構成されている(111)面を指します。

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参考文献

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