( C6 ) プローブ:X線、分析対象:歪・ストレス
分析手法 | 略号 | 分析原理 | 得られる情報 | 分析感度・スペック | 適用例 |
X線回折法 (X-ray Diffraction) |
XRD | 試料にX線を照射し、回折したX線から、結晶構造の解析や未知試料の同定分析を行う |
・単結晶基板や単結晶薄膜の結晶方位 ・薄膜の組成や結晶性、配向性 |
分解能:⊿d/d=0.0001~0.01%(d:結晶の面間隔) 膜厚:数10nm以上 |
・基板結晶の結晶方位 ・シリサイド膜組成 ・配線メタル膜配向性 ・高・強誘電体膜の結晶性 ・化合物半導体の結晶性、組成、(膜厚) |